金融界2024年12月24日音信,国度常识产权局讯息显示,上海华力微电子有限公司赢得一项名为“等离子刻蚀安装”的专利,授权告示号CN 222190625 U,申请日期为2024年4月。
专利摘要显示,本适用新型涉及半导体修筑技巧范畴,更加涉及一种等离子刻蚀安装,蕴涵静电吸盘、聚焦环以及支持环,所述支持环树立正在所述静电吸盘上,所述聚焦环树立正在所述支持环的上方,所述聚焦环的下表面树立有第一斜面,所述支持环的上表面树立有与所述第一斜面相适配的第二斜面,所述第一斜面与所述第二斜面彼此贴合以对所述聚焦环举办水准限位,所述聚焦环与所述静电吸盘一心树立。通过正在所述聚焦环与所述支持环的接触面处对应树立相适配的所述第一斜面与所述第二斜面,可以范围所述聚焦环正在水准面上的挪动,确保所述聚焦环安设后与所述静电吸盘一心树立,避免所述聚焦环安设偏爱题主意发作。